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第82章 光刻机与光刻胶（第1页）

【物品：低端光刻机】看书溂

【经验值：（可升级）】

【优化点：250.8】

第二天，蔡晋睡醒之后，来到小工厂，查看光刻机的时候，数据已经发生了变化。

“系统，升级！”

蔡晋毫不犹豫地选择了升级。

唰！

一道微光闪烁！

顿时，这台光刻机就发生了变化。

至少看起来，顺眼了很多。

相关的信息，蔡晋也就了解了。

【物品：中低端光刻机】

【经验值：0】

【优化点：250.8】

这台光刻机，一下子从可以生产300nm，一下子提升到了150nm芯片水平。

不过，150nm芯片，依旧属于低端芯片，根本没有任何值得喜悦的。

蔡晋继续让光刻机运行着。

随后，他开始组装生产光刻胶的设备。

芯片发展有一个叫做摩尔定律的说法，每18~24个月，性能就会翻一倍。

而保持摩尔定律【生命力】的基石之一就是光刻技术，每18~24个月，利用光刻工艺在集成电路板上所能形成最小图案的特征尺寸将缩小30%。

光刻胶，正是光刻工艺的核心材料，它可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案。

光刻胶的质量和性能，会直接影响到集成电路制造过程中的优良率。

一句话概括就是，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。

而中国在半导体光刻胶方面，简直是惨不忍睹，国产市场占有率仅仅1%！

中国每年光刻胶的产量，已经达到了惊人的七万吨。

但这些产量只不过是一些初级产品罢了。

至于中高端产品，全部需要从境外购买，技术完全被境外封锁。

一种年使用量超过十万吨的重要耗材，居然全靠进口，说起来何等心酸。

想想，目前中国曝光机和光刻机数量庞大，就算遭到对手的打击，一时半刻没办法进口这两种机台，国内相关行业也还撑得住。