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第85章 见证历史14纳米轻舟处理器问世（第3页）

十年老班章？

怎么可能给你喝真的！

对于这位白吃白喝，负责监控他们使用光刻机的“活体监控摄像头”

，不给你喝毒药就不错了，还给你喝十年老班章。

不过让高永明没想到的是，他曲程一把年纪了，居然这么损，戏还演的那么好。

二十块买的工业茶，硬是说成正宗老班章。

“啊！”

在喝了第二杯后，拉比兹也开门见山道：“两位找我，应该不只是喝茶吧？”

“对，找你订购光刻机。”

曲程不紧不慢说道。

高永明见进入正题，也说出目的道：“我们想再订一台20纳米制程的光刻机。”

“噢？你要扩大生产？”

拉比兹看向高永明询问道。

高永明点了点头，想着怎么拖延时间道：“想试试接20纳米的订单，哦对了，14纳米的euv光刻机你看能……”

话音未落，拉比兹打断道：“抱歉高总，euv光刻机可不是我能够说了算的，你们自己也很清楚，到底是谁在限制你们。”

“说得也对，我们还是继续谈20纳米制程的duv光刻机吧。”

曲程打了个圆场道。

两人的任务很简单，就是拖延足够多的时间。

等另一位荷兰工程师来交班，估计就差不多了，现在就拼命拖延就完事了。

……

芯片生产车间。

20纳米制程光刻机内部。

第一块光掩膜版已经安装，光刻机镜头正射出193纳米波长的深紫外光光源，每次曝光，都会在底部的晶圆片上刻出设计好的芯片电路图案。

随着移动平台的不断移动，以及光刻机镜头的不断曝光，晶圆片被刻上了密密麻麻的芯片电路图，如果是生产20纳米芯片，现在就已经完成光刻，可以直接送交切割封装检测了。

但用duv光刻机生产14纳米芯片，一次曝光根本不能满足需求，需要二次曝光。

“取出第一块光掩膜版，安装第二块光掩膜版。”

林天目光看向冯承铭说道。

冯承铭立马照做。

当第二块光掩膜版放入光刻机镜头处，林天开始亲自校准，并讲解道：“听好了，多重曝光技术难的点在于晶圆对齐，如果两次的点位出现偏差，第二次曝光将会损坏第一次曝光留下的电路图案，因此要多加小心。”

在确认没问题以后，他看向冯承铭道：“二次涂抹光刻胶，进行二次曝光步骤。”

“明白了。”